高性能ターゲット材
オマットはお客様に優れた製品とサービスを提供します
製品リスト
全 32 製品
装飾コーティングターゲット
装飾コーティング用クロムおよび合金ターゲット
装飾コーティング用金属および合金スパッタリングターゲット；時計・宝飾・金物の表面処理に適用
銀ターゲット（Agターゲット）
Low-Eガラスコーティング用高純度銀スパッタリングターゲット
Low-Eガラスコーティング用高純度銀スパッタリングターゲット
太陽光用ITOターゲット
太陽電池用高純度ITOスパッタリングターゲット
太陽光用ITOターゲット（90:10、97:3）、薄膜のシート抵抗と透過率のバランスに優れ、スパッタリング安定性が高くノジュールができにくい。
ITOターゲット
TFT-LCDディスプレイパネル用高純度平面ITOターゲット
G11/G10.5/G8.5/G5高世代ライン用TFT/OLEDターゲット、長さ最大4000mm、AMAT/ULVAC等のコーティング装置に適合。
高純度銅ターゲット（Cuターゲット）
オライ銅ターゲットは、高純度・低酸素・微細結晶粒径などの優れた特長を備えています。
オライ銅ターゲットは、高純度・低酸素・微細結晶粒径などの優れた特長を備えています。
チタンアルミニウムターゲット（TiAl）
装飾用チタンアルミニウム合金ターゲット
全板チタンアルミニウム（TiAl）ターゲット、装飾および工具コーティングに適用。
銅ターゲット（Cuターゲット）
Low-Eガラスコーティング用銅ターゲット
Low-Eガラスコーティング用銅スパッタリングターゲット
モリブデンターゲット（Moターゲット）
TFT-LCDディスプレイパネル用高純度モリブデンターゲット
ディスプレイパネル用モリブデンスパッタリングターゲット、電極および配線層に使用
高純度アルミニウム及び合金 Al/AlSi/AlCu/AlSiCu
半導体チップ用高純度アルミニウム及び合金スパッタリングターゲット、純度≥5N5、平均結晶粒径≤100μm。
半導体チップ用高純度アルミニウム及び合金スパッタリングターゲット、純度≥5N5、平均結晶粒径≤100μm。
アルミクロムターゲット（AlCr）
装飾用アルミクロム合金ターゲット
全板アルミクロム（AlCr）ターゲット、長さ最大2m、装飾コーティングに適用。
建築ガラスターゲット
Low-Eガラスコーティングターゲット
業界の主要な長期サプライヤーとして、当社のターゲットはVON ARDENNE、LEYBOLD、BOC AIRCO、AMAT等のすべての常规コーティングシステムに
OMHT超高移動度ターゲット
高移動度透明導電ターゲット
OMHT超高移動度ターゲット（99:1）、移動度120+ cm²/(V·s)、薄膜のシート抵抗が低く透過率が高く、電池の光電変換効率を効果的に向上させる。
アルミニウムターゲット（Alターゲット）
TFT-LCDディスプレイパネル用高純度銅ターゲット
ディスプレイパネル用高純度アルミニウムスパッタリングターゲット、G8.5仕様、国内初の顧客検証通過
チタンターゲット（Tiターゲット）
半導体チップバリア層用高純度・高緻密チタンスパッタリングターゲット
半導体チップバリア層用高純度・高緻密チタンスパッタリングターゲット
黒鉛ターゲット
黒鉛ターゲット
高純度黒鉛ターゲット、装飾および機能コーティングに適用。
ニッケルクロムターゲット（NiCr）
Low-Eガラスニッケルクロムターゲット
全板ニッケルクロム（NiCr）ターゲット、長さ最大3900mm、Low-Eガラスコーティング生産ラインに適用。
TCOMインジウムフリーターゲット
インジウムフリー透明導電ターゲット
TCOMインジウムフリーターゲットはターゲットコストを効果的に低減、薄膜の近赤外透過率が高く、太陽電池に適用。
回転ITOターゲット
高世代ライン用回転ITOターゲット
TFT/OLED高世代ライン用回転ITOターゲット、長さ最大4000mm、スパッタリング効率および利用率が高い。
タンタルターゲット（Taターゲット）
半導体チップ銅配線拡散防止層用タンタルスパッタリングターゲット
半導体チップ銅配線拡散防止層用タンタルスパッタリングターゲット
シリコンターゲット（Si）
高純度シリコンターゲット
高純度シリコンターゲット、装飾および機能コーティングに適用。
クロム-ニッケルクロム-ステンレスターゲット
クロム系合金ターゲット
クロム・ニッケルクロム・ステンレス等のシリーズターゲット、建築ガラス機能コーティングに適用。
RPD-PEDターゲット
小口径円筒ターゲット
ICO（移動度150+ cm²/(V·s)）、IWO、IZO、AZO、SnOx等の小口径円筒ターゲットを含むRPD/PEDターゲット。
回転アルミニウムターゲット
高純度回転アルミニウムターゲット
TFT-LCDディスプレイパネル用高純度回転アルミニウムターゲット、AMAT/ULVAC等のコーティング装置に適合。
コバルトターゲット（Coターゲット）
半導体チップコンタクト層用コバルトスパッタリングターゲット、先端プロセスに適用
半導体チップコンタクト層用コバルトスパッタリングターゲット、先端プロセスに適用
チタン-チタンアルミニウムターゲット
チタンおよびチタンアルミニウム合金ターゲット
チタンおよびチタンアルミニウム合金シリーズターゲット、装飾および工具コーティングに適用。
電極メタライゼーションターゲット
太陽電池電極メタライゼーションターゲット
太陽電池電極メタライゼーション用ターゲット、太陽電池の表面／裏面電極作製に適用。
回転銅ターゲット
高純度回転銅ターゲット
TFT-LCDディスプレイパネル用高純度回転銅ターゲット、導電性に優れ、高世代ラインに適用。
リン青銅アノード
高純度リン青銅アノード材料
集積回路めっき用高純度リン青銅アノード、リン含有量が均一で溶解性に優れ、先端パッケージングめっきプロセスに適用。
インジウムスズターゲット（InSn）
インジウムスズ合金ターゲット
インジウムスズ合金ターゲット、装飾コーティングに適用。
正孔輸送層ターゲット
NiOx正孔輸送層ターゲット
NiOx:Xターゲット、ペロブスカイト太陽電池の正孔輸送層作製に適用。
ニッケルターゲット（Ni）
高純度ニッケルターゲット
高純度ニッケルターゲット、装飾および工具コーティングに適用。
クロム-アルミクロム-チタン-ジルコニウム-ニッケルシリーズターゲット
多元素合金ターゲット
クロム・アルミクロム・チタン・チタンアルミニウム・ジルコニウム・ニッケル等のシリーズターゲットで、各種装飾および工具コーティングの要件を満たす。
