欧莱新材材料研究院

欧莱新材材料研究院共设立了6个市级、省部级科研平台和9个内设研发机构,拥有多名国内外具有先进行业经验的高端人才,研究课题涉及先进铜材料、靶材制备技术、半导体电子材料、薄膜技术、新能源材料(光伏电池、动力电池)、高纯金属、稀散金属、检测分析技术等领域,致力于打造产研用一体化的企业研发创新体系。

6个科研平台

市级、省部级科研平台

高端人才团队

国内外具有先进行业经验的高端人才

9个研发机构

内设研发机构,覆盖全产业链

核心研发设备

マグネトロンスパッタリングコーター

ターゲットスパッタリング検証のコア設備。スパッタリング薄膜堆積プロセスの研究に使用。

到達真空

≤5.0×10⁻⁶Pa

スパッタ電力

DC/RF 500W

基板サイズ

≤4インチ

温度範囲

RT-800°C

5,500トン双動押出機

国内業界最大級の双動銅押出機の一つ。乳源生産拠点に位置し、高級銅合金材料に強力な加工能力を提供する。

公称圧力

5500トン

コンテナ径

Φ280-420mm

押出比

最大50:1

製品長さ

≤25m

大型熱間等方性プレス(HIP)

華南地方最大規模の熱間等方性プレス。高性能金属および先端材料に緻密化処理を提供する。

最高温度

1400°C

最高圧力

200MPa

ワークゾーン

Φ500×1000mm

温度均一性

±5°C

四探針抵抗測定システム

薄膜の導電性を高精度に測定。ターゲット・金属薄膜などの抵抗率試験に適用。

抵抗率範囲

10⁻⁵~10⁵ Ω·cm

シート抵抗

10⁻³~10⁶ Ω/□

測定精度

±0.5%

プローブ間隔

1.0mm

ブルッカーステッププロファイラー

ナノスケールの表面精密検査。薄膜厚さ・表面粗さなどの形状パラメータ測定に使用。

垂直分解能

≤0.1nm

スキャン範囲

≤50mm

最大試料厚

50mm

ステージサイズ

200×200mm

黄光クリーンルーム

半導体グレードのクリーン環境。露光機・現像機などを備え、フォトリソグラフィ工程の研究開発に使用。

清浄度クラス

Class 1000

リソグラフィ解像度

≤1μm

露光面積

≤6インチ

重ね合わせ精度

≤0.3μm

SEM走査型電子顕微鏡

材料の微細形態観察および組成分析に使用。分解能はナノメートルレベルに達する。

二次電子分解能

≤3.0nm@30kV

倍率

7X~1,000,000X

加速電圧

200V~30kV

EDS分析

B-U元素

XRD X線回折装置

材料の定性・定量相分析。ターゲット・薄膜などの結晶構造解析に使用。

角度範囲

5°~140°(2θ)

測定精度

±0.01°

X線源

Cu Kα

最大電力

3kW

ICP-OES分光光度計

誘導結合プラズマ発光分光装置。材料内の元素含有量分析に使用。

波長範囲

167-852nm

分析精度

ppmレベル

検出限界

ppbレベル

線形範囲

5-6桁

ONH 酸素・窒素・水素分析装置

金属材料内の酸素・窒素・水素含有量を高精度に測定する。

酸素検出範囲

0.05ppm~5.0%

窒素検出範囲

0.05ppm~3.0%

水素検出範囲

0.1ppm~0.25%

検出限界

0.025ppm(O)